三星取得EUV機台 台積電轉戰1.4奈米製程開發

【新唐人亞太台 2022 年 06 月 21 日訊】日前三星已經從荷蘭半導體設備商艾司摩爾(ASML)取得額外的極紫外光(EUV)設備,三星目標在研發先進製程技術上,超越台積電。但業界傳出,台積電早已向ASML採購Hing-NA EUV微影設備,將為台積電跨進埃米世代預先部署,研判是用於預定今年8月成軍的1.4奈米研發團隊使用,三星離超車台積電的目標,仍有一段距離。

2奈米成為半導體先進製程決戰點,台積電、三星、英特爾相繼喊出量產時程,也持續往再下世代的埃米時代佈局,業界正密切關注哪家企業掌握下一代晶片技術的優勢。

三星電子近來動作頻頻,日前三星已經從ASML取得額外的極紫外光(EUV)設備,想超車台積電,但近日台積電宣布,將在2024年取得ASML最新一代Hing-NA EUV微影設備。

據了解,台積電買進下世代High-NA微影設備,將為台積電跨進埃米世代預先部署,不會用於2025年量產的2奈米,研判是用於預定今年8月成軍的1.4奈米研發團隊使用。

台積電供應鏈透露,台積電若要導入艾司摩爾High-NA微影設備投入產線,最快也要到2027年預定量產的1.4奈米,不過台積電向來追求設備使用效率,估計會把這套要價接近90億元的最先進設備作為跨進埃米世代的生產主力,且以台積電目前掌握的技術路徑,也會在2奈米持續超越英特爾,更讓三星看不到車尾燈。

新唐人亞太電視 莊麗存 綜合報導

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