取代EUV地位？美商成功挑戰0.7奈米製程

【新唐人亞太台 2022 年 09 月 26 日訊】現時市面上使用各式各樣晶片的製品，大多是採用荷蘭半導體設備商艾司摩爾（ASML）的EUV曝光機製成，但其實它並非世上獨有的曝光機技術。美國公司Zyvex宣布，推出能製作出0.7奈米晶片的曝光機，主要用於量子電腦。

根據美國的Zyvex公司官網介紹，Zyvex推出的微影系統名為ZyvexLitho1，基於STM掃描隧道顯微鏡，使用的是EBL電子束微影技術，成功製造0.7奈米晶片，相當於2個矽原子的寬度，是目前世上精度最高的微影系統。

雖然ZyvexLitho1技術大幅領先艾司摩爾的EUV曝光機，但因為產量非常低，不可能應付市面晶片需求，這也代表無法取代艾司摩爾EUV的地位。

STM技術發明者、伊利諾伊大學教授萊丁（Joe Lyding）表示，到目前為止，Zyvex實驗室的技術是最先進的，ZyvexLitho1也是這種原子級精確微影技術的唯一商業化實現。

新唐人亞太電視 莊麗存 綜合報導