取代EUV地位?美商成功挑戰0.7奈米製程
【新唐人亞太台 2022 年 09 月 26 日訊】現時市面上使用各式各樣晶片的製品,大多是採用荷蘭半導體設備商艾司摩爾(ASML)的EUV曝光機製成,但其實它並非世上獨有的曝光機技術。美國公司Zyvex宣布,推出能製作出0.7奈米晶片的曝光機,主要用於量子電腦。
根據美國的Zyvex公司官網介紹,Zyvex推出的微影系統名為ZyvexLitho1,基於STM掃描隧道顯微鏡,使用的是EBL電子束微影技術,成功製造0.7奈米晶片,相當於2個矽原子的寬度,是目前世上精度最高的微影系統。
雖然ZyvexLitho1技術大幅領先艾司摩爾的EUV曝光機,但因為產量非常低,不可能應付市面晶片需求,這也代表無法取代艾司摩爾EUV的地位。
STM技術發明者、伊利諾伊大學教授萊丁(Joe Lyding)表示,到目前為止,Zyvex實驗室的技術是最先進的,ZyvexLitho1也是這種原子級精確微影技術的唯一商業化實現。
新唐人亞太電視 莊麗存 綜合報導
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