台積先進製程新戰力 下世代EUV設備傳本月進駐

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    【新唐人亞太台 2024 年 09 月 10 日訊】半導體先進製程, 2 奈米以下埃米時代,ASML 高數值孔徑極紫外光 (High-NA EUV) 曝光機就成為先進製程半導體廠的關鍵,繼英特爾之後,台積電第一台High-NA EUV,傳出這個月進機台,將移入台積電全球研發中心,據外媒報導,High-NA EUV 每套 3.8 億美元 (約新台幣 120 億元),傳出董事長魏哲家親自操刀,讓ASML提供價格折扣,議價幅度達15%。業界表示,High NA EUV設備體積龐大,規格特殊且精密,如何運送入廠,交通路線需仔細研究。

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